Система измерения толщины пленок была разработана для научных исследований и разработок в лабораториях для измерения толщины тонких пленок, а также в системах контроля качества и мониторинга процесса в линиях по производству; полупроводников, FPD, в нанотехнологий, электронных материалов и специальных пленок. Так, например, в полупроводниковой промышленности, каждая тонкая пленка осажденная на подложке должна быть получена на основе точного дизайна и чертежа. Система анализа толщин тонких пленок используется для контроля процесса изготовления и определения уровня качества продукта путем измерения толщины тонких пленок. Существуют различные методы для измерения толщины пленки: стилусом на основе механической технологии, микроскопические технологии и оптические технологии, как правило, наиболее широко используемые. Измерительная система толщина пленки SpectraThick компании K-MAC, является адаптированной усовершенствованной технологией с использованием оптического метода. Таким образом, явление интерференции между отраженными световыми сигналами на поверхности пленки и поверхностью подложки или разность фаз света определяет свойства пленки. Таким образом, мы можем измерить не только толщину пленки, но и её оптические параметры постоянные. Если пленка прозрачная и поддерживает оптическую интерференцию, то любой образец такой пленки может быть измерен с Spectra Thick профилометром интерферометром компании K-MAC. Толщина каждого слоя многослойной пленки может быть измерена с помощью математического расчета по формулам. Благодаря интуитивно понятному интерфейсу, операция с использованием программного обеспечения позволит очень просто вычислить толщину пленки. Анализ будет неразрущающим, т.е. без ущерба для образца, обладая широким диапазоном толщин от агстрем до десятков микрон. Скачать брошюру.
Спецификации
Размеры | 190 x 265 x 316 мм |
Вес | 12 кг |
Тип | Ручной |
Размер измеряемого образца | < 4" |
Метод измерения | Безконтактный |
Принцип измерения | Рефлектометр |
Особенности | Скорость измерений & Простота в работе безконтактный & неразрушающий превосходная повторяемость & воспроизводимость Windows дружественный интерфейс функция печати к каждому виду & сохранение данных *поддержка до 3 слоев *поддержка обратного отражения |
Особенности
Размер платформы | 150 x 120 мм(диапазон перемещений 70 x 50 мм) |
Диапазон измерений | 200 Ангстрем ~ 35 мкм (зависит от типа пленки) |
Размер пятна | 20 мкм |
Скорость измерений | 1~2 сек/место |
Область применения | Полимеры : PVA, PET, PP, PR ... Диэлектрики : Полупроводники : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS... |
Опционально | Эталонный стандкртный образец(K-MAC, KRISS, NIST) |
Голова | Тринокуляр |
Башня | Четырехместный револьверный механизм с внутренним наклоном |
Тип освещения | 12В 35Вт галогеновая лампа с встроенным контроллером и трансформатором |